《表3 蒙脱石参与木质素腐殖化过程FTIR光谱主要吸收峰的相对强度》
蒙脱石参与木质素腐殖化过程FTIR光谱主要吸附峰的相对强度列于表3.由表3可见,与M-10相比,M-30,M-60,M-110处理蒙脱石的表面羟基总量、层间及晶格中结晶水含量均减少,Si—O晶格的伸缩振动、Mg—Al—OH键以及表示Fe—O—Si键(或Mg—O—Si键)的弯曲振动频率均增加.通常情况下,蒙脱石对木质素等较难降解的疏水性有机成分有较强的表面吸附能力[15].此外,微生物在转化木质素过程中可释放胞外聚合物[20],与蒙脱石表面官能团形成氢键,可降低羟基总量以及层间和晶格中结晶水,并提高Si—O,Mg—Al—OH,Fe—O—Si键(或Mg—O—Si键)的振动频率.M-110-CK2处理下因木质素的添加也有上述规律,M-110-CK3处理下仅接种复合菌株,无碳源基质,菌株会失活形成菌体,菌体表面羧基与蒙脱石表面水合基发生配位体交换[21],增加表面OH-的伸缩振动[20],对Si—O,M—Al—OH,Fe—O—Si键(或Mg—O—Si键)的影响较小.因此,微生物转化木质素过程释放胞外聚合物与蒙脱石表面形成氢键,以及菌体与蒙脱石表面水合基发生配位体交换是蒙脱石参与木质素腐殖化过程的主要机制.
图表编号 | XD00134146200 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.03.26 |
作者 | 王楠、徐俊平、陈殿元、王帅 |
绘制单位 | 吉林农业科技学院农学院、吉林农业科技学院农学院、中国农业大学资源与环境学院、吉林农业科技学院农学院、吉林农业科技学院农学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |