《表2 匀胶参数:大口径石英基底衍射透镜的高精度制备方法》
首先,使用酒精和丙酮对石英基底、掩模版和工装进行清洗;然后将正性光刻胶AZ1500均匀涂覆在石英基底上,旋涂参数由表2给出;再将涂覆光刻胶的石英基底置于105℃的烘箱中烘烤10min;烘烤完毕冷却至室温后,将石英基底如图9所示放在光刻机的可升降承片台上,然后将校正工装与掩模版通过真空吸附高度贴合后共同放置在掩模架上并固定,如图10所示;根据光刻机视频对准系统按照对准标记通过可升降承片台调节掩模版与石英基底的间距直至二者高度贴合;此时固定石英基底的位置,取下工装,开始曝光.
图表编号 | XD00157603800 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.01 |
作者 | 巩畅畅、范斌、邵俊铭、刘鑫 |
绘制单位 | 中国科学院光电技术研究所、中国科学院大学、中国科学院光电技术研究所、中国科学院光电技术研究所、中国科学院光电技术研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |