《表2 各生长方法In P单晶的参数和特性》
表2所示用各种生长方法拉制的In P单晶参数和特性对比情况,通过对比可以发现,LEC法在晶体直径方面具有较大优势,但由于温度梯度较大的原因,晶体的位错密度较高。VGF法生长的晶体可以将位错密度控制在较低的水平,但晶体直径和生长长度目前还不是很理想,生长效率和成晶率仍有待提高。VCZ法结合了LEC和VGF法的优势,可以获得直径较大晶体质量较好的In P单晶,但由于技术门槛的原因,其大规模推广受到一定的限制。
图表编号 | XD0014939200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.07.20 |
作者 | 张伟才、韩焕鹏、杨静 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国电子科技集团公司第四十六研究所、中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |