《表1 单晶锗材料参数：双划痕实验中单晶锗的去除机制和损伤行为》

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《双划痕实验中单晶锗的去除机制和损伤行为》

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实验使用的单晶锗（111）样品由合肥科晶公司制造，大小为10 mm×10 mm×0.5 mm，表面粗糙度Ra<0.5 nm，材料参数如表1所示。实验前先将样品放入丙酮中浸泡10 min，然后将样品放置在涂有黏合剂的载物台上。划痕实验在纳米压痕仪G200上进行，纳米压痕仪划痕系统的最大法向载荷为500 m N，最大横向载荷250 m N，横向力分辨率2μN，如图1（a）所示。实验采用圆弧半径为20 nm的Cube Corner压头，压头三面互相垂直，中心线与面的夹角为45°。刻划过程中压头的棱朝前，刻划示意图如图1（b）所示。