《表2 采用不同缓冲剂时的镀速和镀层均匀性Table 2 Deposition rate and coating uniformity when using different buffer solu
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《缓冲剂对亚硫酸盐-硫代硫酸盐化学镀金液稳定性及镀层形貌的影响》
由表2可知,镀液中未加缓冲剂时平均镀速最低,镀层厚度的相对标准偏差达到21.17%;添加不同缓冲剂后,平均镀速均有不同程度的提高。除了C6H8O7-C6H8O7Na3缓冲体系外,其他体系的镀层厚度相对标准偏差均减小。采用CH3COOH-CH3COONa缓冲体系时镀速最大,镀层厚度的相对标准偏差最小,故其镀层均匀性最好;Na2HPO4-Na H2PO4缓冲体系的镀层厚度相对标准偏差不高,但镀液对Ni2+的耐受力与还原剂稳定性均不如其他缓冲剂。
图表编号 | XD0014494200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.02.28 |
作者 | 吕泽满、常任珂、王兵毅、谭桂珍、郝志峰、丁启恒、柯勇 |
绘制单位 | 广东工业大学轻化学院、广东工业大学轻化学院、广东工业大学轻化学院、广东工业大学轻化学院、广东工业大学轻化学院、深圳市荣伟业电子有限公司、景旺电子科技(龙川)有限公司 |
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