《表2 采用不同缓冲剂时的镀速和镀层均匀性Table 2 Deposition rate and coating uniformity when using different buffer solu

《表2 采用不同缓冲剂时的镀速和镀层均匀性Table 2 Deposition rate and coating uniformity when using different buffer solu   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《缓冲剂对亚硫酸盐-硫代硫酸盐化学镀金液稳定性及镀层形貌的影响》


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由表2可知,镀液中未加缓冲剂时平均镀速最低,镀层厚度的相对标准偏差达到21.17%;添加不同缓冲剂后,平均镀速均有不同程度的提高。除了C6H8O7-C6H8O7Na3缓冲体系外,其他体系的镀层厚度相对标准偏差均减小。采用CH3COOH-CH3COONa缓冲体系时镀速最大,镀层厚度的相对标准偏差最小,故其镀层均匀性最好;Na2HPO4-Na H2PO4缓冲体系的镀层厚度相对标准偏差不高,但镀液对Ni2+的耐受力与还原剂稳定性均不如其他缓冲剂。