《表3 两种薄膜厚度及电学性能测试与计算结果》
从表4可以看出,两种薄膜均表现出良好的表面平整度。但2#薄膜的表面粗糙度更低,这是由于2#靶材晶粒大小相对均匀,晶界相对较少,在相同的溅射功率下所轰击出的离子浓度更均匀,沉积在基片表面的薄膜表面就会更平整。
图表编号 | XD00127314200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.31 |
作者 | 席莎、安耿、李晶、韩强、刘仁智、赵虎 |
绘制单位 | 金堆城钼业股份有限公司技术中心、金堆城钼业股份有限公司技术中心、金堆城钼业股份有限公司技术中心、金堆城钼业股份有限公司技术中心、金堆城钼业股份有限公司技术中心、金堆城钼业股份有限公司技术中心 |
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