《离子注入与分析基础》

第一章绪论1

1-1 离子注入学科的作用和意义1

1-2 国内外离子束研究概况2

1-3 离子注入技术的特点4

第二章离子注入装置的物理基础6

2-1 概述6

2-2 基本工作原理7

第三章离子与固体相互作用的物理基础17

3-1 离子与固体相互作用的基本概念17

3-2 粒子弹性碰撞19

3-3 离子与固体表面的相互作用26

第四章注入离子的射程分布理论30

4-1 非晶靶中的射程分布理论30

4-2 单晶靶中的射程分布理论37

附录4-1 离子注入投影射程表43

第五章离子注入材料分析方法(Ⅰ)52

5-1 离子注入材料分析概述52

5-2 二次离子质谱技术(SIMS)53

5-3 背散射能谱技术(RBS)60

5-4 核反应分析法(NRA)73

5-5 质子激发X荧光分析技术(PIXE)78

附录5-1 串列加速器85

6-1 俄歇电子能谱分析(AES)86

第六章离子注入材料分析方法(Ⅱ)86

6-2 X射线衍射结构分析(XRD)90

6-3 电子显微镜分析(TEM、SEM)94

6-4 电子自旋共振技术(ESR)100

6-5 正电子湮没技术(PAT)104

第七章金属物理基础117

7-1 金属的电子理论117

7-2 金属的结构120

7-3 合金的结构123

7-4 金属和合金中的扩散126

7-5 固态相变130

附录7-1 周期表中部分元素的晶体结构、原子直径及核外电子分布总表135

第八章金属材料的离子束改性136

8-1 金属离子注入的基本效应136

8-2 金属材料离子束改性的方法及特点138

8-3 金属材料离子束改性的原理及应用实例142

8-4 金属材料离子束改性的机理156

第九章功能材料的离子注入162

9-1 半导体材料的离子注入162

9-2 绝缘材料的离子注入171

9-3 磁性材料的离子注入173

9-4 光学材料的离子注入175

9-5 超导材料的离子注入176

参考文献180