《表1 基片编号：不同比例钛掺杂对类金刚石薄膜性能的影响》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《不同比例钛掺杂对类金刚石薄膜性能的影响》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

采用磁控溅射镀膜机（PLASMAADS400）在硬质合金（硬质合金型号为YG10C，尺寸16 mm×16 mm×3 mm，表面光洁度Ra0.6，显微硬度86 （HRA）） 基体表面制备Ti掺杂类金刚石涂层。对YG10C硬质合金基片涂覆之前，需对基片进行酒精清洗、蒸馏水清洗，然后进行超声波清洗，最后进行烘干处理，确保基片表面无油渍、锈斑、水珠等影响涂层的因素。将清洗完全的YG10C基片用专用夹具固定加紧后，放入PLASMAADS400设备中，启动机械泵及分子泵将炉腔内部抽至所需真空度，并采用内部加热装置对基体表面进行加热，以达到薄膜沉积所需温度，此时夹具的转速为3 r/min。在薄膜的沉积之前需采用氩气对基体进行等离子刻蚀清洗15 min，然后进行离子溅射沉积。制备Ti掺杂类金刚石薄膜采用两个石墨靶、两个钛靶，靶材的基本尺寸:圆柱体Ti靶（尺寸、纯度）:φ49 mm×18 mm、纯度99.9%，圆柱体石墨靶（尺寸、纯度）:尺寸φ49mm×18 mm、纯度99.9%。在整个溅射沉积过程中，将石墨靶的溅射功率设定为恒定，通过改变钛靶的溅射功率来调节钛的掺杂含量，为了得到无氢的TiDLC薄膜，整个沉积过程在Ar气气氛中进行，没有使用任何反应气体。将由不同钛靶溅射功率制备的不同钛含量的涂层基片，选择其中的五组进行一一编号，见表1。