《表8 研发“粉饰”行为对不同类型专利产出的回归结果——按法制环境分样本检验》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《法制环境、研发“粉饰”行为与绩效》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

注:因变量分别是专利申请数量（Patent）、有效的专利申请数量（Valid Patent）、专利IPC数（IPC）和专利权利要求数（Claim）来计量，其他变量定义见表2；LawD=0代表法制环境低分组，LawD=1代表法制环境高分组；括号内列示了调整异方差后的p值，*、**和***分别代表在10%、5%和1%

首先，本文按照法制环境中位数划分高低分组来检验研发“粉饰”行为对专利产出的影响（表8），发现OverRD对专利产出的积极影响全部体现在法制环境低分组中，专利产出量系数0.207（p=0.001）、有效专利系数0.152（p=0.009）、专利IPC数系数0.252（p=0.000）与引用量系数0.276（p=0.001），均在统计意义上显著。说明在法制环境较差的地区，有研发“粉饰”行为的企业相对于没有研发“粉饰”行为的企业专利申请量增长了20.7%，有效专利增长15.2%，专利IPC数增长25.2%，专利引用量增长27.6%，H4a得到证实。