《表9 研发“粉饰”行为对实用新型的回归结果——按法制环境分样本检验》

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《法制环境、研发“粉饰”行为与绩效》

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注:因变量分别是实用新型的专利申请数量（Patent）、有效的实用新型专利申请数量（Valid Patent）、实用新型的专利IPC数（IPC）和实用新型的专利权利要求数（Claim）来计量，其他变量定义见表2；LawD=0代表法制环境低分组，LawD=1代表法制环境高分组；括号内列示了调整异方差后

由于表6发现OverRD只对实用新型专利有促进作用，而对发明专利没有作用，因此本文对实用新型专利进行了分组检验，按照L a w D分值的高低分为两组（表9）。结果表明，低法制环境下的实用新型各类产出全部显著增加，其中，专利申请Patent的系数0.150（p=0.011）、有效专利Valid Patent的系数0.123（p=0.035）、专利IPC的系数0.177（p=0.008）与引用量Claim的系数0.201（P=0.012），均在统计意义上显著。因此，在法制环境较差的地区，有研发“粉饰”行为的企业相对于没有研发“粉饰”行为的企业，实用新型专利申请Patent增长15%，有效专利Valid Patent增长12.3%，专利IPC增长17.7%，引用量Claim增长20.1%，从而进一步证实了H4a。