《表5 Si-O-Si键吸收峰强度变化》

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《阴离子合成POSS端基官能化聚丁二烯与白炭黑相互作用》

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图6（b、d）显示，随着白炭黑或Si69含量的增加，Si-O-Si键吸收峰强度先增加后减小，类似地，在1 114 cm-1处Si-O-Si键吸收峰强度增加更加明显，结果如表5所示，这再次证明了白炭黑和POSS之间存在强的氢键相互作用。同时白炭黑与PB-POSS氢键相互作用越强，Si-O-Si键吸收峰强度越高，表明白炭黑含量为50份、Si69含量为2.5份时，Si-O-Si峰强最大，与结合胶含量测试结果相一致。