《表4 Si-OH键吸收峰的位移变化》

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《阴离子合成POSS端基官能化聚丁二烯与白炭黑相互作用》

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图6（a—d）为不同白炭黑含量和Si69含量下得到的PB-POSS结合胶的FTIR谱。图6（a、c）显示，填充白炭黑后，Si-OH键吸收峰向低波数区偏移，均与白炭黑（图3）的SiOH键吸收峰（3 428 cm-1）有较大的波数差，结果如表4所示。由文献可知[14，23]，正是由于白炭黑与PB-POSS存在氢键相互作用，导致Si-OH键吸收峰向低波数偏移。白炭黑与PB-POSS氢键相互作用越强，Si-OH键吸收峰向低波数区偏移越多，与白炭黑的Si-OH键吸收峰波数差越大。由表4可见，白炭黑含量为50份、Si69含量为2.5份时，波数偏移最大，波数差也最大，证明此时白炭黑与POSS氢键相互作用最强，而结合胶含量在此条件下也最大，这就解释了结合胶含量的变化规律。