《表2 不同偏压Ti Al Si N涂层的磨损试验数据》
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《电弧离子镀偏压对TiAlSiN涂层结构及性能的影响》
偏压为50 V时,如图8a所示,磨损过程中涂层脱落的颗粒在磨损轨迹中被压碎,小颗粒在涂层摩擦副之间持续滑动形成犁沟,当较硬磨粒压入致密性较差的涂层时,在压应力作用下甚至会产生裂纹,从而导致涂层成块脱落。偏压为75~150 V时,涂层的内部致密度较好,磨损过程中没有成块脱落迹象,磨损形貌中主要存在颗粒在表面压入与粘着的痕迹[25]。
图表编号 | XD00219223000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.09.20 |
作者 | 宋智辉、代明江、李洪、洪悦、林松盛、石倩、苏一凡 |
绘制单位 | 广东工业大学材料与能源学院、广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室、广东工业大学材料与能源学院、广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室、广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室、广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室、广东工业大学材料与能源学院、广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验 |
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