《表2 高压SOI pLDMOS不同状态下外加偏压》
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《高压SOI pLDMOS器件电离辐射总剂量效应研究》
辐射时,器件的偏置状态为Off-state与GND-state,Off-state为考量器件耐压抗辐射能力的最劣偏置,在此状态下着重观察器件的耐压退化情况,表2所示为高压SOI p LDMOS器件在辐射时不同状态下外加电压的情况。
图表编号 | XD00150882100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.06.20 |
作者 | 马阔、乔明、周锌、王卓 |
绘制单位 | 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室、电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室、电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室、电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 |
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