《表3 不同偏压下所制涂层的显微硬度》
(单位:HV)
从表3可知,涂层的显微硬度较低,这是由于镁合金基体硬度较低的缘故。随着负偏压增加,涂层的显微硬度提高。对基体施加偏压时,增强了入射粒子的能量,到达基体表面的原子在较大能量下形核率更高,结晶度更大,生成的硬质Ti CN相和Ti N相更多,硬度也就越大。
图表编号 | XD00191717000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.01.15 |
作者 | 邢珂、李博文 |
绘制单位 | 内蒙古机电职业技术学院冶金与材料工程系、中科院金属研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |