《表1 不同偏压下所得涂层表面元素的质量分数》
由图3可知,XRF谱图上出现Ti、C和N元素的峰,分别出现在86.14°、32.46°和32.93°。从表1可知,C、N两元素的质量比接近1∶2。随着偏压增加,涂层中Ti、C元素含量逐渐增大,N元素含量逐渐减小。这主要是由于在偏压作用下,在直流作用下溅射出来的原子更多地飞向基体,并且以较高的能量在基体上扩散迁移。
图表编号 | XD00191717300 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2021.01.15 |
作者 | 邢珂、李博文 |
绘制单位 | 内蒙古机电职业技术学院冶金与材料工程系、中科院金属研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |