《表1 不同电压下所得微弧氧化膜中不同元素的原子分数》
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《电压对TC4合金K_2ZrF_6–Na_2SiO_3–(NaPO_3)_6体系微弧氧化膜性能的影响》
(%)
从表1可以看出,随着氧化电压的升高,Si含量先增大后减小,P含量小幅降低,Zr含量递增。
图表编号 | XD0029811700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.01.15 |
作者 | 崔嵬、呼丹、高广睿、屈静 |
绘制单位 | 庆安集团有限公司、西安赛福斯材料防护有限责任公司、西安赛福斯材料防护有限责任公司、西北有色金属研究院、西安赛福斯材料防护有限责任公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |