《表1 磁控溅射的环境记录》
以Nb2O5和SiO2为沉积材料,采用磁控溅射(HSP-1650)交替沉积两种材料构成多波段带通滤波器。薄膜沉积过程中,腔体内充斥纯氧,交替使用硅靶和镍靶在玻璃基板(厚0.8 mm)上进行沉积,沉积的第一层为Nb2O5。磁控溅射的环境记录如表1。
图表编号 | XD00146855100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.07.01 |
作者 | 戚李阳、徐斌、王元庆 |
绘制单位 | 南京大学立体影像技术实验室、南京大学立体影像技术实验室、南京大学立体影像技术实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |