《表1 磁控溅射与激光熔覆技术的特点》

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《高熵薄膜和成分梯度材料》

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薄膜的制备方法因性能和应用的要求不同而异，高熵薄膜的制备方法主要分为两大类:物理成膜和化学成膜。物理成膜主要指物理的气相沉积（PVD），如真空溅射、真空蒸发及离子镀等；化学成膜主要包括化学气相沉积（CVD）和液相反应沉积。目前，现有文献中已报道的高熵合金薄膜的制备方法有磁控溅射法[15-18]、激光熔覆法[19-21]、电化学沉积法[22]、电弧热喷涂法[23]，冷喷涂法[24]、电子束蒸发沉积法[25]、等离子熔覆法[12]等，常见的薄膜制备方法汇总如图2所示。其中，对于高熵合金薄膜而言，物理成膜技术中的磁控溅射和激光熔覆技术是最常用的制备方式，在表1中对两种涂层制备技术的工艺特点进行了分析和总结。