《表2 两种算法测量结果的对比》

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《基于图像处理的线距测量方法》

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系统工作时，将100nm～10μm线距标准样片依次放在NMM测量平台上，测量平台通过压电陶瓷驱动，进行纳米级精准移动，保证了样片光栅特征的快速循迹与定位。经过扫描，可重建样片光栅特征的三维形貌，进而计算光栅的线距值。同理，选取样片光栅特征的10个周期，并取平均值作为单周期测量值。此外，将NMM测量值作为参照值，通过计算两种算法的相对误差，来比较两种算法的优劣性，如表2所示。