《表1 抛光工艺参数：双氧水稳定剂对碱性铜膜抛光液稳定性的影响》

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《双氧水稳定剂对碱性铜膜抛光液稳定性的影响》

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本文采用法国Alpsitec公司生产的E460抛光机，抛光垫为Rohm Haas IC1000。使用美国PSS NICOMP380ZLS激光粒度仪测量抛光液粒径和Zeta电位。抛光工艺参数如表1所示，表中1 psi=6 895 Pa。