《表5 基座旋转速度和载气流量与外延厚度均匀性的关系Tab.5 Relationship of the susceptor rotation speed and carrier gas flow ra
如表5所示,通过对H2总载气流量和基座旋转速度的调制,实现对外延流场结构以及厚度不均匀性的进一步改善,在H2总载气流量为80 L/min,基座旋转速率为35 r/min时,可将厚度不均匀性优化至1%以下,相比于初始设备状态下不均匀性仅小于3%的水平,参数一致性取得了明显的改善。
图表编号 | XD001103000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.12.03 |
作者 | 李明达 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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