《表6 灯管功率分布特性与外延层电阻率均匀性的关系Tab.6 Relationship between the lamp power distribution charac-teristics and
随着外延膜层的横向生长,硅片表面各区域的温度分布也将直接影响掺杂气源的掺杂效率,即决定了电阻率的均匀性。由于控制滑移线的工艺实验已经划定生长温度和分布范围,在上、下部内圈灯管的功率分配为46%~50%的基础上,继续研究对基片径向温场分布的调控,其与外延层电阻率均匀性的实验结果如表6所示。
图表编号 | XD001102600 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2018.12.03 |
作者 | 李明达 |
绘制单位 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
查看“表6 灯管功率分布特性与外延层电阻率均匀性的关系Tab.6 Relationship between the lamp power distribution charac-teristics and uniformity of the ep”的人还看了
- 表4 气流分布特征与外延层厚度均匀性的关系Tab.4 Relationship between gas flow distribution characteristics and uniformity of the epitaxial la
- 表2 安徽传统村落空间分布与坡度关系Table 2 The relationship between spatial distribution and slope of Anhui traditional village