《表6 灯管功率分布特性与外延层电阻率均匀性的关系Tab.6 Relationship between the lamp power distribution charac-teristics and

《表6 灯管功率分布特性与外延层电阻率均匀性的关系Tab.6 Relationship between the lamp power distribution charac-teristics and   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《200 mm硅外延片厚度和电阻率均匀性工艺调控》


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随着外延膜层的横向生长,硅片表面各区域的温度分布也将直接影响掺杂气源的掺杂效率,即决定了电阻率的均匀性。由于控制滑移线的工艺实验已经划定生长温度和分布范围,在上、下部内圈灯管的功率分配为46%~50%的基础上,继续研究对基片径向温场分布的调控,其与外延层电阻率均匀性的实验结果如表6所示。