《表4 气流分布特征与外延层厚度均匀性的关系Tab.4 Relationship between gas flow distribution characteristics and uniformit

《表4 气流分布特征与外延层厚度均匀性的关系Tab.4 Relationship between gas flow distribution characteristics and uniformit   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《200 mm硅外延片厚度和电阻率均匀性工艺调控》


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外延层的厚度分布均匀性与生长腔体内各区域H2的流量和流速的配比度密切相关。进气口处设置载气流量阀,通过调节电压可以对应精准调控流量阀的开合度,进而重新分配中间支路和两侧的气路流量和流速,实现对外延系统反应流场的精确控制。针对1#和2#样片开展流量分配的调控实验,对厚度均匀性的影响效果如表4所示。