《电子材料现代分析概论 第1分册》求取 ⇩

光谱分析篇1

第一章 光谱分析技术1

1．1 光谱分析的概念1

1．2 光谱分析基础4

1．3 原子的激发与电离14

1．4 谱线的特性19

1．5 分子光谱与固体光谱27

1．6 光谱分析过程30

1．7 光谱定性、定量分析43

1．8 发射光谱分析特点与应用55

1．9 电子计算机的应用57

第二章 原子吸收光谱分析63

2．1 概述63

2．2 理论基础64

2．3 仪器装置71

2．4 高温石墨炉原理(HGA)77

2．5 石墨炉原子吸收分析的标准条件84

2．6 分析方法92

2．7 原子吸收法与发射光谱法的比较95

第三章 红外光谱分析技术96

3．1 红外光谱分析概述96

3．2 红外光谱的形成和红外区的分类96

3．3 红外光谱分析的理论基础97

3．4 分析试样的处理103

3．5 红外分光光度计105

3．6 红外光谱与分子结构110

3．8 有关无机物的红外光谱129

3．7 红外光的应用与分析131

3．9 红外光谱的应用与分析143

3．10 用红外光潜研究聚合反应151

3．11 红外吸收法测定硅单晶中的氧、碳含量151

3．12 红外标准谱图文献及其检索165

光谱分析篇参考文献174

4．1 X射线及晶体学的基础知识177

X射线分析篇177

第四章 衍射原理与多晶体的结构分析177

4．2 X射线的衍射及其几何理论192

4．3 粉末照相法199

4．4 衍射仪法206

4．5 结构因子和消光规律214

4．6 衍射指数的标注及点阵类型的确定220

4．7 点阵参数的精确测定231

4．8 衍射线强度的计算239

4．9 多晶结构的分析举例247

第五章 物相分析与晶粒大小、应力及织构的测定258

5．1 物相定性分析258

5．2 物相定量分析271

5．3 晶粒大小及微观应力的测定275

5．4 多晶体织构的测定282

第六章 单晶分析法与荧光光谱分析295

6．1 劳埃法295

6．2 周转晶体法300

6．3 荧光光谱分析302

X射线分析篇附录310

附录1 元素的质量吸收系数μm(包括散射)310

附录2 原子散射因子f311

附录3 多重性因子P_(kkl)312

附录4 角因数φ(θ)313

附录5 吸收因子R(θ)316

附录6 德拜温度H321

附录7 德拜函数φ(x)/x＋1/4321

附录8 德拜-瓦洛温度因子e~M322

附录9 32种点群及其符号324

附录10 230种空间群325

附录11 滑移平面的空间群消光特征328

附录12 螺旋轴的空间群消光特征330

附录13 No．227空间群的晶体学数据331

X射线分析篇参考文献335