《表4 回归分析结果：研发支出、盈余水平与企业避税》

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《研发支出、盈余水平与企业避税》

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注:括号内为t值，*p<0.1，**p<0.05，***p<0.01

本文使用OLS估计混合截面数据，并使用异方差稳健标准误，使回归结果更稳健。表4的第1列列示了研发支出对企业避税程度的回归结果，回归结果显示，RD的系数为-0.404，在1%的水平上显著，表示RD与ETR显著负相关，即研发支出越高，有效税率越低，则企业避税程度越大，证明了假设1。第2列对模型2的回归结果表示，与模型1相比较，引入交互项后，模型的解释能力增强，增加了1.3%（△R2=0.013）。在模型2中，RD在1%的水平下与ETR显著负相关，RD×ROE在1%的水平下与ETR显著正相关，表明研发支出对有效税率存在显著的约束作用，而盈余水平可以有效缓解RD与ETR之间的负向关系，即盈余水平对研发支出与企业避税间的关系有负向调节作用，证明了假设3。第3列列示了研发支出费用化对企业避税程度的回归结果，回归结果显示，RDF的系数为-0.464，在1%的水平上显著，表明RDF与ETR显著负相关，即研发支出费用化程度越高，有效税率越低，则企业避税程度越大，证明了假设2。第4列对模型4的回归结果显示，与模型3相比较，引入交互项后，模型的解释能力增强，增加了1%（△R2=0.01）。在模型4中，RDF在1%的水平下与ETR显著负相关，RDF×ROE在1%的水平下与ETR显著正相关，表明研发支出费用化对有效税率存在显著的约束作用，而盈余水平可以有效缓解RDF与ETR之间的负向关系，即盈余水平对研发支出费用化与企业避税间的关系有负向调节作用，证明了假设4。