《表1 经不同浓度HATT和HXTT处理1 h后铜电极的交流阻抗谱参数》

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《铜表面三唑硫酮衍生物的自组装及其抗盐酸腐蚀的电化学性能》

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将图4中各曲线相应的等效电路（见图5）拟合得到的数据见表1。结果表明，裸铜电极的Ydl数值较大，ndl值较小，说明裸铜电极的双电层电容较大，弥散效应明显。经缓蚀剂HATT或HXTT处理后，铜电极/溶液（0.5 mol/L HCl）界面间的电荷传递电阻Rct增大，当HATT或HXTT浓度达到2×10-4 mol/L时，Rct分别增加到6985Ω?cm2和6334Ω?cm2，比裸铜电极的增加了数十倍。另外，HATT或HXTT处理后铜电极的电化学阻抗等效电路中出现了膜电阻和膜电容，且随着它们浓度的增加，膜电阻增大，而双电层电容的Ydl值和膜电容的Ysam值减小。这是由于铜表面存在自组装膜，削弱了电极表面与水溶液的接触，导致铜与溶液界面间的电容减小[30-32]。双电层电容的Ydl值和膜电容的Ysam值的求算分别见式（1）和（2）[33]: