《表5 5×10-5 mol/L的HATT和HXTT处理不同时间后铜电极的Tafel曲线参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《铜表面三唑硫酮衍生物的自组装及其抗盐酸腐蚀的电化学性能》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

图10、11及表6还表明，HATT或HXTT浓度对铜电极循环伏安曲线中还原峰的影响小，峰位置基本保持不变。可能是经高电位处理后，铜电极表面的自组装膜被大部分破坏或大部分从电极表面脱附，仅少量HATT或HXTT存在于电极表面。当进行第二圈和第三圈循环伏安扫描时，由于电极表面不再存在缓蚀剂分子膜，循环伏安曲线的形状、峰位置及峰电流密度等与裸铜的接近。