《表3 不同预处理方法下PLS建模结果》

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《基于GA的偏最小二乘法在近红外光谱识别苹果表面农药残留量的应用》

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图3为采集喷洒四种不同体积分数毒死蜱农药的样品组与空白对照组苹果样品表皮的原始光谱。本文对原始光谱进行多元散射校正（multiplicative scatter correction，MSC），标准正态随机变量（standard normal variate，SNV）和二阶导数（second derivative，SD）3种预处理，光谱预处理的目的在于比较分析3种预处理对PLS模型预测结果的影响。通过表3可知，用SD预处理优化的PLS模型是最优的，结果如图4所示。