《表3 纳米压印工艺参数》
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SPDT飞切制备的镍铜模具的表面能高，直接用于压印会导致结构的变形，使用PDMS将微金字塔结构复制到软模具中，以解决硬质模具脱模导致的结构变形问题.文中使用的掩模层材料为纳米压印胶MrI7500（Micro resist Technology，Berlin，Germany），使用机械力热压印方式[24]，实现微金字塔结构阵列的掩模层的制备.表3给出纳米压印工艺参数，压印结果见文献[22].
| 图表编号 | XD0063371800 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.07.01 |
| 作者 | 葛少博、刘卫国、周顺、杨鹏飞、李世杰、黄岳田、孙雪平、林大斌、张进 |
| 绘制单位 | 西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、中国科学院光电技术研究所、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室、西安工业大学光电学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
