《表5 不同气体流量比碳纳米管生长工艺参数》
在碳纳米管生长过程中,其分布和数量主要受活性碳原子和H+刻蚀的双重影响。在高温和等离子射频作用下,CH4分解出活性碳原子作为碳源,H2分解出H+对催化剂颗粒、无定形碳以及碳纳米管进行刻蚀。因此,CH4和H2气体的比例也将影响碳纳米管的生长形貌。固定碳纳米管生长过程中H2气体流量为10 sccm,改变CH4气体流量为10~80 sccm,对碳纳米管生长形貌进行研究,工艺参数见表5。
图表编号 | XD00163856200 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.04.20 |
作者 | 常青、张丽霞、孙湛、宋义河、朱泳安 |
绘制单位 | 哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室、哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室、哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室、哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室、哈尔滨工业大学先进焊接与连接国家重点实验室 |
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