《表4 关键步骤最佳工艺条件》

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《高频双极晶体管工艺特性研究》

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本文对高频双极晶体管的制造工艺难点，包括集电极深N阱工艺、多晶硅刻蚀工艺和多晶硅发射极工艺做了详细的分析与讨论，并对各个关键工艺的优化方法进行了表述。通过对器件参数的分析，获得的关键步骤最佳工艺条件如表4所示。