《表4 不同磷酸用量时蚀刻前后镀铜银纳米线薄膜的光电性能》

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《镀铜银纳米线导电薄膜铜层蚀刻液研究》

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从表4可以看出，过硫酸钠用量固定为3 g，磷酸用量在3～14 g时，镀铜银纳米线薄膜经蚀刻处理后其方块电阻、透过率与银纳米线薄膜相比变化不大，只有磷酸用量在14 g时，雾度略升。