《表2 不同酸体系下所得硅烷膜的腐蚀电流密度与腐蚀电位》

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《酸对硅烷膜形成及性能的影响》

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图5为不同酸体系下所得复合硅烷膜的极化曲线，基材为Q235低碳钢。图5对应的腐蚀电流密度与腐蚀电位见表2。可以看出:在不加酸、加盐酸、加醋酸体系下获得的硅烷膜的腐蚀电流密度分别为3.390 7×10-6、6.158 8×10-6、4.967 0×10-6A/cm2，与没有硅烷膜保护的裸基体的腐蚀电流密度2.364 8×10-5A/cm2相比，腐蚀电流密度大幅度降低，说明硅烷膜具有一定的防腐蚀作用，降低了基体的腐蚀速率。从腐蚀电位看，不加酸和加醋酸体系中的试样相对于裸基体的电位都正移，说明在这两个体系下对腐蚀反应阳极过程的抑制能力增强。