《表3 浸没式光刻投影物镜设计结果》
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从表3可以看出，设计结果明显优于指标要求，波像差为0.5 nm，为指标要求1 nm的1/2，畸变的设计结果为2 nm，远优于设计指标。
| 图表编号 | XD00175603200 严禁用于非法目的 |
|---|---|
| 绘制时间 | 2020.05.25 |
| 作者 | 刘雅丽 |
| 绘制单位 | 卡尔蔡司(上海)管理有限公司 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
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