《表4 分析结果:基于浸没式光刻光束稳定系统的反射镜》
根据测试结果,193nm高反膜在45°入射角时反射率为98.50%,40°入射时反射率为97.33%,50°入射时反射率为97.42%.采用Contour GT光学轮廓仪测量样片的表面微观结构,如图15,测出的结果见表4.
图表编号 | XD0032842300 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 李美萱、李宏、张斯淇、郭明、付秀华 |
绘制单位 | 吉林工程技术师范学院量子信息技术交叉学科研究院、吉林省量子信息技术工程实验室、吉林工程技术师范学院量子信息技术交叉学科研究院、吉林省量子信息技术工程实验室、吉林工程技术师范学院量子信息技术交叉学科研究院、吉林省量子信息技术工程实验室、吉林工程技术师范学院量子信息技术交叉学科研究院、吉林省量子信息技术工程实验室、长春理工大学光电工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |