《表1 CF Mask Common识别标准》

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《自动光学检测机在彩膜面板Mask Common检测中的应用研究》

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如本文1.2所述，Mask Common最典型的特征是在面板的不同曝光Shot中存在共通性，如何筛取这些共通性信息则是Common识别的关键。继续以6 shot曝光的面板为例，CF面板的坐标系以面板中心为零点，面板的倒角设置在X正方向。面板进入AOI设备内后，CCD会根据面板的进入方向与坐标系建立设备坐标系，从而得到检出缺陷的具体坐标信息。但以面板整体为单位建立坐标系时，每个Common点检出的坐标差异较大，需要经过复杂的计算转换，无法直接进行位置信息的比较。因此，为了提高Common位点的识别效率和准确率，本文介绍了一种双坐标系建立的方式，即以每个Panel的相同顶点为原点，建立二次坐标系，将每个Panel的缺陷坐标称为Data/Gate坐标，从而直观地通过缺陷位置坐标、种类对比，实现Common的识别（如图6所示），具体识别标准如表1所示。