《表5 拟合M-S曲线获得合金表面腐蚀产物膜的平带电位和施主密度》

《表5 拟合M-S曲线获得合金表面腐蚀产物膜的平带电位和施主密度》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《Sc对Al-3Cu-1Li合金酸性条件下腐蚀行为的影响》


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M-S曲线广泛用于研究金属表面腐蚀产物膜或钝化膜的半导体特征,膜具有的半导体性质与其组成和结构有关。Al-3Cu-1Li-x Sc合金自腐蚀电位下浸泡1 800 s后的M-S曲线如图6所示,4种合金的M-S曲线的斜率都为正,具有n型半导体特征(氧空位为主要缺陷),Sc没有改变该合金表面腐蚀产物膜具有的半导体特征。对曲线进行拟合,获得4种合金的平带电位结果见表5所示,可见Sc添加后该合金表面腐蚀产物膜的平带电位负移。平带电位与半导体的费米能级满足如下关系式[23]: