《表2 RGB膜层曝光工艺需求》
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《彩色滤光膜在显示中的应用及其制作对曝光性能的需求研究》
RGB彩色光阻中添加了颜料成份,同样具有較高的耐化学性、耐热性以及优良的机械性。RGB图案的线宽均较宽,采用接近式曝光设备即可实现性能需求,曝光剂量约需30~60mj/cm2,具体线宽和套刻规格见表2所示。另,RGB线宽和套刻测量位置如图7所示。
图表编号 | XD00151501600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.05.30 |
作者 | 李会丽、朱文、曹进 |
绘制单位 | 上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |