《表1 制备Ti N膜层的工艺参数》

《表1 制备Ti N膜层的工艺参数》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《304不锈钢表面多弧离子镀TiN膜层的抗锡腐蚀性能》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

采用TSU-650型多功能镀膜机镀膜,靶材为高纯度的Ti靶,制备过程中用到高纯度的氩气和氮气气源。首先将腔室抽至3×10-3 Pa的真空度,随后通入氩气至3 Pa,在-600 V偏压下进行气体离子源清洗。在制备TiN膜层之前,为了提高膜层与基体的结合力,改变氩分压至0.2 Pa,在不锈钢表面制备一层Ti过渡层,基体偏压100 V,弧流80 A,沉积时间3 min。最后在过渡层的基础上进行TiN膜层的制备,工艺参数见表1。