《表3 缓蚀膜的波数和相对透过率》
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《用于铜电化学机械抛光的羟基乙叉二膦酸基电解液反应机理研究》
表2和表3是缓蚀膜和HEDP的波数及相对透过率，推测缓蚀膜很可能是铜和HEDP的一种配合物。
| 图表编号 | XD00149524900 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2020.06.20 |
| 作者 | 吴由頁、康仁科、郭江、刘作涛、金洙吉 |
| 绘制单位 | 大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室、大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室 |
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