《表1 试验工艺参数：TC4钛合金表面的多层素CrN涂层》

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《TC4钛合金表面的多层素CrN涂层》

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基体TC4钛合金化学成分为：w（Al）=5.5%～6.8%、w（V）=3.5%～4.5%、w（Fe）=0.30%、w（O）=0.20%、w（C）=0.10%、w（H）=0.05%，其余为Ti。线切割加工成尺寸为15 mm×15 mm×5 mm的片状试样。经碱洗除油、600～5000号砂纸打磨后抛光至镜面，然后放入无水乙醇中超声波清洗30 min，取出后吹干放入设备腔体内。磁控Cr靶材纯度为99.9%，尺寸为500 mm×180 mm×10 mm。沉积涂层前腔体真空度为3 m Pa。通入纯度为99.9%氩气，使真空气压升至0.3 Pa。分别采用直流低偏压-120 V和高偏压-300 V对基体表面进行等离子清洗各30 min，去除基体表面的钝化膜。表1示出了涂层沉积工艺参数。在沉积多层涂层前，预先沉积纯Cr及致密CrN作为衬底层，降低应力梯度以提高结合力。通过周期性调节基体偏压制备出具有交替疏密结构的多层素CrN涂层。