《表1 试验变化工艺参数：TC4钛合金不同气源激光渗氮行为》

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《TC4钛合金不同气源激光渗氮行为》

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激光器选用FL-DLight3-1500型半导体激光器，额定输出功率为1500 W，具体渗氮工艺参数如下：连续工作模式（CW），波长976 nm，矩形光斑大小为4mm×2 mm，离焦量10 mm，喷嘴距4 mm。氮气和氩气（纯度分别为99.6%和99.98%）通过混比器混合，后经环隙异轴铜喷嘴（示意图见图1）吹入熔池。表1所列为激光功率、激光扫描速度和氮氩混气比（流量比）等试验工艺参数组合，各渗氮层均为单道。