《表1 试验参数：不同离焦量对TC4钛合金半导体激光气体渗氮的影响》
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《不同离焦量对TC4钛合金半导体激光气体渗氮的影响》
本研究采用单变量法，即其他工艺参数不变，研究离焦量对渗氮层的影响。试验参数如表1所示。
| 图表编号 | XD0055813700 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.07.20 |
| 作者 | 郭晋昌、石玗、姚小春、张刚、耿培彪 |
| 绘制单位 | 兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室、陇东学院机械工程学院、兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室、兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室、广西柳工机械股份有限公司、兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室、兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室 |
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