《表2 Cr/CrN/CrAlSiN涂层的性能参数》

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《磁控溅射Cr/CrN/CrAlSiN复合涂层高温氧化行为研究》

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图3为Cr/CrN/CrAlSiN涂层的表面形貌。不同Al靶功率下涂层晶粒均呈现不规则岛状，Al靶功率为350 W时，涂层堆积致密，且晶粒尺寸较小（图3a）。随着Al靶功率增加，晶粒尺寸逐渐增大，这可能与Si含量相对减少有关。Al靶功率为800 W时，晶粒尺寸明显增大且晶粒之间间隙较大（图3d），可能原因是：（1）靶功率过大导致靶材表面在溅射的过程中出现大颗粒溅射粒子；（2）功率过大使溅射粒子具备较高的能量，沉积到基片表面将产生大量缺陷。表2为不同Al含量条件下涂层的化学组成、晶粒尺寸、膜厚以及表面粗糙度，从表中可知，晶粒尺寸、膜厚及表面粗糙度均随Al含量的增加而增大。