《日本的半导体硅工业》

日本的半导体硅工业1

引言1

一、硅的用途与制法简介1

1．硅的用途1

2．硅的优良性质及其特点4

3．对高纯度硅的质量要求5

4．各种制硅方法及其比較7

（1）Zn还原法7

（2）SiCl4的H2还原法8

（3）SiHCl3热分解法8

（4）西門子法9

（5）硅烷法10

（6）SiI4热分解法11

（7）其他方法12

二、欧美硅工业发展概况13

三、日本硅工业发展过程及现状17

1．日本硅工业的发展过程17

2．日本六大公司介绍19

（1）东海电极19

（2）日窒电子化学20

（3）大阪鈦公司21

（4）小松电子金属21

（5）日本电子金属22

（6）信越化学23

（7）其他公司25

四、生产与应用统计26

五、辅助材料的进口情况30

1．氟塑料30

2．石英30

3．石墨31

六、现在水平及今后动向33

1．現有水平33

2．今后动向34

（1）生产与消费预测34

（2）生长单晶的方法及物理提纯38

（3）化学提纯方法39

a、西門子法39

b、SiI4法39

c、H2气提纯40

七、日本硅工业发展的特点41

八、附录一，日本研究半导体的主要研究机关43

1．金材研43

2．电試所45

3．电通所45

4．东工試45

5．东北大学46

6．东芝中央所46

7．其他各公司的研究所46

附录二日本的硅电子设备产品实例一整流器47

附录三日本的用区域熔化法测定B含量的标准方法47