《美国的半导体硅工业》
作者 | 罗英浩编著 编者 |
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出版 | 有色金属研究院 |
参考页数 | 163 |
出版时间 | 1962(求助前请核对) 目录预览 |
ISBN号 | 无 — 求助条款 |
PDF编号 | 8858288(仅供预览,未存储实际文件) |
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一、前言1
(一)概述1
(二)硅的历史2
(三)硅的资源3
(四)硅的性质4
(五)硅的用途9
二、美国的半导体硅工业情况17
(一)美国的半导体硅工业发展简史生产企业的工厂建设及现有水平17
(二)美国半导体硅的生产消费和使用情况28
(三)美国半导体硅的进出口、对外贸易和市场价格36
三、美国半导体硅的生产方法和科学研究技术发展概况48
(一)纯硅制取方法研究48
1.合金法48
2.酸浸法49
3.金属还原二氧化硅49
4.用氢化钙还原四氟化硅49
5.用碱金厉或铝还原四氟化硅或碱金属的氟硅酸盐50
6.将二氧化硅熔融入碱金属氧化物、氯化钠—氯化铝或氯化铝中炭极高温电解50
7.工业硅真空蒸馏50
8.Si+SiO2法51
(二)半导体高纯度硅制取方法研究51
1.原料——各种硅化合物的制备与提纯51
(1)四氯化硅的制备与提纯51
(2)三氯氢硅的制备与提纯57
(3)四碘化硅的制备与提纯60
(4)硅烷的制备与提纯64
2.高纯度硅的制取——化学法68
(1)杜邦法(四氯化硅锌还原)68
(2)贝尔法(四氯化硅氢还原)72
(3)西门子法(三氯氢硅氢还原)79
(4)培西尼法(三氯氢硅热分解)83
(5)硅烷热分解法(I.S.E法,ST&C法或IT&T法)86
(6)四碘化硅热分解法89
(7)四碘化硅氢还原法(西尔凡尼亚法)93
(8)四氯化硅钠还原法(Aries法)95
(9)四溴化硅法(钠、锌、氢还原)95
(10)歧化法97
(11)其它方法98
(12)各种制取方法的比较99
3.高纯度硅的物理提纯103
(1)元坩埚区域熔炼法103
(2)水平区域熔炼法106
4.硅单晶的制取108
四、美国硅半导体器件的工业生产和研究情况115
(一)美国硅半导体器件的生产概况115
1.晶体管生产水平116
2.二极管及整流器生产水平118
3.半导体器件工厂设备的生产能力123
4.半导体器件的制造方法124
5.自动化生产125
6.人员雇用情况126
7.落货量及价格127
(二)美国半导体器件的研究及发展情况129
(三)美国半导体器件的进出口和对外贸易情况132
(四)美国半导体器件的生产新技术及发展趋势134
1.外延生长法134
2.微型电子组件136
3.提高可靠性137
4.降低产品价格138
5.电致发光139
五美国半导体硅工业的特点及对其今后发展趋向的估计和看法140
六参考文献(249篇)152
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- 1984年03月第1版 上海科学技术文献出版社
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- 1963 上海:上海科学技术出版社
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- 1963 上海:上海科学技术出版社
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- 1966 北京:科学出版社
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- 1957 北京:人民邮电出版社
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- 半导体工艺学
- 1959 北京:高等教育出版社
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