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目录1

第一章 复合镀层1

Indira Rajagopal著，范玉殿译1

1.1 引言1

1.1.1 微粒弥散金属复合材料2

1.1.2 电镀复合材料的制取4

1.1.3 机理6

1.1.4 微粒弥散金属复合材料的性能10

1.1.5 润滑镀层13

1.1.6 耐磨镀层15

1.1.7 复合金刚石镀层35

1.1.8 抗蚀镀层37

1.1.9 热处理金属或合金镀层39

1.1.10 特殊用途的镀层40

1.1.11 结束语41

参考文献42

1.2 纤维增强金属复合材料46

1.2.1 纤维增强的力学47

1.2.2 纤维和基体的选择49

1.2.3 纤维增强金属复合材料的电镀53

1.2.4 纤维增强金属基复合材料的性能66

1.2.5 结束语72

参考文献73

1.3 化学镀复合材料74

1.3.1 化学镀复合材料的实验沉积方法74

1.3.2 化学镀复合材料与电镀复合材料的比较76

1.3.3 研究的系统79

1.3.4 化学镀复合材料的结构86

1.3.5 表面光洁度89

1.3.6 化学镀复合材料的硬度和耐磨性93

1.3.7 化学镀复合材料的应用113

1.3.8 结束语117

参考文献117

1.4 层状复合材料119

1.4.1 层状复合材料的例子——Koehler强固体120

1.4.2 电镀层状复合材料举例121

1.4.3 结束语125

参考文献126

1.5 光学复合材料126

1.5.1 复合材料光学性能的理论127

1.5.2 光学复合材料的制取130

1.5.3 光学复合材料的结构和性能131

1.5.4 光学复合材料的形成机理132

1.5.5 应用133

参考文献134

第二章 化学气相沉积135

Deepak G．Bhat著，张济忠译135

2.1 引言135

2.2 镀层的分类135

2.3 气相沉积技术137

2.4 化学气相沉积（CVD）138

2.4.1 CVD的化学反应140

2.4.2 CVD工艺的模型141

2.4.3 CVD制取的材料147

2.4.4 CVD镀层的应用159

2.5 金属有机化合物化学气相沉积（MOCVD）173

2.6 等离子体辅助化学气相沉积（PACVD）175

2.6.1 引言175

2.6.2 PACVD的应用178

2.7 激光化学气相沉积（LCVD）184

2.8 结束语188

参考文献188

第三章 表面改性的离子束技术206

Hillary Solnick-Legg和Keith O．Legg著，张效忠译206

3.1 引言206

3.2 离子束技术的发展206

3.3 离子注入209

3.3.1 离子注入基础209

3.3.2 离子注入设备和方法214

3.3.3 选用离子注入的考虑因素221

3.3.4 注入材料的特性223

3.3.5 实验室试验结果227

3.3.6 工业工具的实验室试验241

3.4 离子辅助镀膜（IAC）244

3.4.1 引言244

3.4.2 IAC的机理245

3.4.3 考虑因素246

3.4.4 IAC的方法、应用和结果247

3.5 结束语257

参考文献258

4.1 引言264

4.2 概述264

John Keem著，王怡德译264

第四章 溅射技术264

4.3 薄膜气相沉积表面改性技术265

4.4 蒸气流形成过程267

4.4.1 溅射267

4.4.2 辉光放电271

4.5 技术简介273

4.5.1 辉光放电沉积273

4.5.2 平面磁控溅射277

4.5.3 离子束溅射280

4.6 技术特性282

4.7 应用284

4.7.1 不锈钢抗蚀镀层284

4.7.2 切削工具镀层的平面磁控溅射286

4.7.3 离子束溅射x射线反射器290

4.8 结束语294

参考文献294

第五章 等离子体处理296

Sidney Dresser著，冯嘉尤译296

5.1 扩散镀层296

5.2 等离子体表面处理297

5.3辉光放电原理298

5.3.1 分压控制299

5.3.2 巴邢定律301

5.3.3 辉光放电的电学特性301

5.3.4 辉光放电的其它特性306

5.3.5 辉光放电的屏蔽309

5.4 等离子体渗氮的化学原理310

5.4.1 显微结构312

5.4.2 化合物层的控制313

5.4.3 等离子体渗氮的特点314

5.5 等离子体渗碳的化学原理315

5.5.1 等离子体渗碳的优点315

5.6 设备和辅助系统322

5.6.1 功率有荷因数323

5.6.2 微机控制326

5.6.3 工件安置327

5.7 温度的均匀性327

5.8 处理工艺330

5.8.1 真空处理清除空气和水蒸气331

5.8.2 对流加热清除吸附的水332

5.8.3 溅射清洗扩散阻挡层333

5.8.4 各种离子的添加334

5.8.5 炉体和工体温度的控制335

5.8.6 混合气体和等离子体参量的控制336

5.8.7 对流冷却和液体淬火337

5.8.8 等离子体渗氮的工艺参数338

5.8.9 空心阴极345

5.8.10 深孔等离子体渗氮350

5.9 等离子体渗氮的典型例子351

5.9.1 碳钢351

5.9.2 合金钢352

5.9.3 耐热钢355

5.9.4 冷加工模具钢356

5.9.5 氮化钢361

5.9.6 不锈钢364

5.9.8 油井钻探工具366

5.9.7 柴油机定时齿轮366

5.9.9 马氏体时效钢367

5.9.10 铝和铝合金370

5.9.11 钛和钛合金371

5.9.12 粉末冶金零件374

5.10 等离子体渗碳的典型例子376

5.10.1 钨弹头378

5.11 等离子体渗硼381

5.12 等离子体渗钛383

5.13 结束语384

参考文献385

P．A．Molian著，周昌炽译388

6.1 引言388

第六章 激光表面合金化388

6.2 激光源390

6.3 工艺参数393

6.4 激光表面合金化397

6.4.1 铬和镍的表面合金化398

6.4.2 等离子喷涂表面合金化421

6.4.3 切削工具的硼和氮化硼表面合金化422

6.4.4 激光合金化层的腐蚀、磨损、硬度和微观结构431

6.5 激光熔覆434

6.5.1 激光熔覆高温应用陶瓷层436

6.6 结束语441

参考文献441

第七章 电子束镀膜444

Siegfried Schiller,Ullrich Heisig和PeterFrach著，王怡德译444

7.1 作为载能体的电子束444

7.1.2 热电子和二次电子发射445

7.1.1 电子背散射445

7.1.3 x射线辐射446

7.1.4 能量传递446

7.2 蒸镀448

7.2.1 电子束蒸镀原理448

7.2.2 残余气体、蒸气与电子之间的相互作用449

7.3 各种材料的蒸发452

7.3.1 元素452

7.3.2 合金455

7.3.3 化合物460

7.4 蒸气传播462

7.4.1 小面积蒸发器462

7.4.2 蒸发源大范围分布的蒸发装置466

7.4.3 短自由程蒸气的传播468

7.5 蒸发器472

7.5.1 电子束蒸发器472

7.5.2 坩埚结构479

7.5.3 送料方式482

7.6 蒸发速率484

7.6.1 功率密度与蒸发速率484

7.6.2 蒸发参数与凝聚速率486

7.6.3 蒸发过程的控制487

7.7 等离子体辅助电子束蒸镀487

7.7.1 离子镀488

7.7.2 活性反应蒸镀495

7.7.3 离子辅助镀膜技术的比较496

7.8.1 电子束蒸发器的应用498

7.8.2 电子束蒸发器在标准设备中的应用498

7.8 电子束蒸镀的工业应用498

7.8.3 电子束蒸发器在特殊设备中应用的例子500

参考文献505

第八章 渗硼和扩散金属化515

Ruth Chatterjee-Fischer著，范玉殿译515

8.1 渗硼515

8.1.1 钢铁材料的渗硼515

8.1.2 有色金属及其合金的渗硼522

8.2 渗硼方法522

8.2.1 钢铁材料522

8.2.2 有色金属及其合金531

8.3 硼化物形成的检测533

8.3.1 硬度测定533

8.3.2 厚度测定534

8.3.3 结构测定535

8.4 渗硼层的性能536

8.4.1 耐磨性能536

8.4.2 腐蚀行为538

8.4.3 机械性能540

8.5 多元渗硼541

8.6 渗硼的应用544

8.7 扩渗金属 .546

8.8 扩渗金属的例子548

8.8.1 渗铬548

8.8.2 渗钒550

8.8.3 渗铝551

8.8.4 渗硅552

8.8.5 应用553

参考文献554