《表面沉积技术》求取 ⇩

引言1

第一章离子沉积技术的物理基础7

一、真空物理基础7

(一)真空的基本概念7

(二)气体分子运动论9

(三)分子运动的平均自由程12

(四)气体分子和表面的作用16

二、低温等离子体物理基础24

(一)低温等离子体物理概述24

(二)低气压气体放电27

(三)气体放电发展过程46

(四)辉光放电特性55

(五)弧光放电特性63

(六)带电粒子与表面的作用79

(七)带电粒子在电磁场中的运动83

第二章各种表面沉积技术92

一、氮化钛等超硬涂层92

(一)沉积超硬涂层技术的发展概况92

(二)超硬涂层的类型93

(三)超硬涂层的作用95

二、化学气相沉积(CVD)98

(一)绪言98

(二)CVD技术在机械工业中的应用98

(三)CVD的一般原理和技术101

(一)真空蒸镀114

三、物理气相沉积(PVD)114

(二)离子镀128

(三)磁控溅射168

(四)物理气相沉积工艺过程186

四、等离子体化学气相沉积(PCVD)189

(一)等离子体发生过程190

(二)等离子体中的化学反应195

(三)等离子体化学气相沉积装置199

(四)等离子体化学气相沉积工艺过程201

第三章镀层的质量检测205

一、镀层的性能测试205

(一)镀层厚度的测量205

(二)镀层结合强度的测量208

(三)镀层硬度的测量212

(四)镀层应力的测量216

(五)镀层孔隙率的测量219

(六)氮化钛色泽的测定223

二、镀层显微结构的分析231

(一)微观组织形貌观察234

(二)微区化学成分分析236

(三)微区晶体结构分析241

(四)镀层的电子结构分析243

三、镀层的显微组织和沉积工艺参数的关系244

四、镀层的性能—结构—工艺关系260

附录269

国内外刀具超硬涂层镀膜设备主要参数和性能指标269