《真空镀膜技术与设备》求取 ⇩

第1章引论1

1.1 真空镀膜技术及其特点1

1.2 真空镀膜技术的发展和应用2

1.3 真空镀膜技术的分类3

第2章真空镀膜基础5

2.1 气体与固体的相互作用5

2.2 膜的生长11

2.3 膜的应力13

2.4 膜的附着强度15

2.5 膜的基本性质22

第3章真空蒸发镀膜25

3.1 真空蒸发镀膜原理25

3.2 蒸发源32

3.3 蒸发源的蒸发特性及其膜厚分布56

3.4 某些特定材料的蒸发技术62

3.5 间歇式真空蒸发镀膜机70

3.6 半连续式真空蒸发镀膜机71

第4章真空溅射镀膜80

4.1 溅射技术80

4.2 直流溅射镀膜94

4.3 磁控溅射镀膜99

4.4 射频溅射镀膜118

4.5 反应溅射镀膜123

4.6 磁场计算124

4.7 水冷系统的设计与计算130

4.8 膜厚均匀度131

第5章真空离子镀膜和束流沉积技术137

5.1 真空离子镀膜137

5.2 离子束沉积技术174

5.3 分子束外延技术182

第6章化学气相沉积技术186

6.1 CVD 技术的原理、特点和应用186

6.2 CVD 方法简介189

6.3 低压化学气相沉积(LPCVD)技术191

6.4 等离子增强化学气相沉积(PECVD)技术198

6.5 其它化学气相沉积法207

第7章真空离子注入技术211

7.1 概述211

7.2 离子束与固体作用的基本物理过程211

7.3 几种离子注入的新方法214

7.4 离子注入装置215

7.5 离子注入及离子束混合的一些应用224

第8章薄膜微细加工技术226

8.1 概述226

8.2 离子束刻蚀228

8.3 糠酸溅射刻蚀240

8.4 等离子体反应刻蚀241

8.5 反应离子刻蚀244

第9章真空镀膜设备若干构件的设计与计算248

9.1 镀膜室的设计与强度计算248

9.2 镀膜室升降机构的设计255

9.3 镀膜室工件架的设计259

9.4 真空镀膜机的烘烤与测温装置263

9.5 真空镀膜机的挡板机构266

9.6 真空系统与充气系统266

9.7 电和运动的导入273

第10章薄膜厚度的测量与监控276

10.1 电学测量法276

10.2 光学测量法281

10.3 机械测量法285

第11章真空镀膜设备的安装与维护288

11.1 安装环境288

11.2 调试前的准备工作288

11.3 调试288

11.4 使用操作程序289

11.5 真空系统操作过程中的注意问题289

11.6 真空镀膜设备运转故障的消除290

参考文献292